6-2. Physical Epitaxy Techniques : Vapor, MBE, PLD, Sputter (DC, Magnetron, RF)
본 글은 고려대학교 화공생명공학과 하정숙 교수님의 강의록을 참고하였으므로, 이를 상업적으로 이용하면 안되며, 글을 가져가실 때는 꼭 출처와 댓글을 남겨주시기 바랍니다. 1. Introduction (Epitaxy) mechanism : 증착시키는 물질들을 어떻게 만들어내느냐에 따라 다르다. 속도 : MBE가 증착시키는 속도가 굉장히 빠르다. 물질 : 증착되는 물질은 Physical 에서는 Atom, Ion, PLD는 plasma 때문에 cluster도 있다. chemical에서는 아무래도 chemical reaction이 일어나기 때문에, chemisorption이 되기 전 단계인 precursor 단계에서 atom으로 분해되는 과정에서의 입자들이 증착될 것이다. Throwing Power : 주어진 위..
2020. 6. 15.
